Tetracloruro de hafnio | HfCl₄ en polvo | CAS 13499-05-3 | Precio de fábrica

Descripción breve:

El tetracloruro de hafnio tiene importantes aplicaciones como precursor del óxido de hafnio, catalizador para síntesis orgánica, aplicaciones nucleares y deposición de películas delgadas, destacando su versatilidad e importancia en diversos campos tecnológicos.

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Detalle del producto

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Descripción del Producto

Breve introducción

Nombre del producto: Tetracloruro de hafnio
N.º CAS: 13499-05-3
Fórmula compuesta: HfCl4
Peso molecular: 320,3
Aspecto: Polvo blanco

Especificación

Artículo	Especificación
Apariencia	Polvo blanco
HfCl4+ZrCl4	≥99,9%
Zr	≤200 ppm
Fe	≤40 ppm
Ti	≤20 ppm
Si	≤40 ppm
Mg	≤20 ppm
Cr	≤20 ppm
Ni	≤25 ppm
U	≤5 ppm
Al	≤60 ppm

Solicitud

Precursor del dióxido de hafnioEl tetracloruro de hafnio se utiliza principalmente como precursor para producir dióxido de hafnio (HfO₂), un material con excelentes propiedades dieléctricas. El HfO₂ se utiliza ampliamente en aplicaciones dieléctricas de alta k para transistores y condensadores en la industria de semiconductores. El HfCl₄ es esencial en la fabricación de dispositivos electrónicos avanzados gracias a su capacidad para formar películas delgadas de dióxido de hafnio.
Catalizador de síntesis orgánicaEl tetracloruro de hafnio puede utilizarse como catalizador en diversas reacciones de síntesis orgánica, especialmente en la polimerización de olefinas. Sus propiedades de ácido de Lewis contribuyen a la formación de intermediarios activos, mejorando así la eficiencia de las reacciones químicas. Esta aplicación es valiosa en la producción de polímeros y otros compuestos orgánicos en la industria química.
Aplicación nuclearDebido a su alta sección transversal de absorción de neutrones, el tetracloruro de hafnio se utiliza ampliamente en aplicaciones nucleares, especialmente en barras de control de reactores nucleares. El hafnio puede absorber neutrones eficazmente, por lo que es un material adecuado para regular el proceso de fisión, lo que contribuye a mejorar la seguridad y la eficiencia de la generación de energía nuclear.
Deposición de película delgadaEl tetracloruro de hafnio se utiliza en procesos de deposición química en fase de vapor (CVD) para formar películas delgadas de materiales a base de hafnio. Estas películas son esenciales en diversas aplicaciones, como la microelectrónica, la óptica y los recubrimientos protectores. La capacidad de depositar películas uniformes y de alta calidad hace que el HfCl₄ sea valioso en procesos de fabricación avanzados.