Tetracloruro de Hafnium | HFCL4 PODVO | CAS 13499-05-3 | precio de fábrica

Tetracloruro de Hafnium | HFCL4 PODVO | CAS 13499-05-3 | Imagen destacada de precio de fábrica

Descripción breve:

El tetracloruro de Hafnium tiene aplicaciones importantes como precursor del óxido de hafnio, catalizador para la síntesis orgánica, aplicaciones nucleares y deposición de películas delgadas, destacando su versatilidad e importancia en diversos campos tecnológicos.

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Detalle del producto

Etiquetas de productos

Descripción del Producto

Breve introducción

Nombre del producto: tetracloruro de Hafnium
Cas no.: 13499-05-3
Fórmula compuesta: HFCL4
Peso molecular: 320.3
Apariencia: polvo blanco

Especificación

Artículo	Especificación
Apariencia	Polvo blanco
HFCL4+ZRCL4	≥99.9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Solicitud

Precursor de dióxido de hafnio: El tetracloruro de Hafnium se usa principalmente como precursor para producir dióxido de hafnio (HFO2), un material con excelentes propiedades dieléctricas. HFO2 se usa ampliamente en aplicaciones dieléctricas de alto K para transistores y condensadores en la industria de semiconductores. HFCL4 es esencial en la fabricación de dispositivos electrónicos avanzados debido a su capacidad para formar películas delgadas de dióxido de hafnio.
Catalizador de síntesis orgánica: El tetracloruro de Hafnium se puede usar como catalizador para varias reacciones de síntesis orgánica, especialmente la polimerización de olefinas. Sus propiedades de ácido de Lewis ayudan a formar intermedios activos, mejorando así la eficiencia de las reacciones químicas. Esta aplicación es valiosa en la producción de polímeros y otros compuestos orgánicos en la industria química.
Aplicación nuclear: Debido a su sección transversal de absorción de neutrones, el tetracloruro de Hafnium se usa ampliamente en aplicaciones nucleares, especialmente en las barras de control de los reactores nucleares. Hafnium puede absorber efectivamente los neutrones, por lo que es un material adecuado para regular el proceso de fisión, lo que ayuda a mejorar la seguridad y la eficiencia de la generación de energía nuclear.
Deposición de película delgada: El tetracloruro de Hafnium se usa en procesos de deposición de vapor químico (CVD) para formar películas delgadas de materiales a base de hafnio. Estas películas son esenciales en una variedad de aplicaciones, incluidas microelectrónicas, ópticas y recubrimientos protectores. La capacidad de depositar películas uniformes de alta calidad hace que HFCL4 sea valioso en procesos de fabricación avanzados.